| 事業内容 |
◆事業・商品の特徴
２０００年に２１世紀の半導体産業を支える最先端企業として誕生した当社。以来、世界に先駆けて半導体リソグラフィ装置向けに最新鋭のエキシマレーザを次々と製品化しており、また、エキシマレーザに代わる次世代リソグラフィ光源として注目されている極端紫外線（ＥＵＶ）光源の開発・量産化にも積極的に取り組んでいます。世界有数のリソグラフィ装置用エキシマレーザメーカーである当社は、常に市場ニーズを最優先し研究開発から製造、テクニカルサポートに至るまで、グローバルな事業戦略を基礎にＮｏ．１に向かって挑戦し続けます。
◆事業優位性 世界トップレベルのエキシマレーザメーカー
ギガフォトンは２００４年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産型ＡｒＦエキシマレーザを世界に先立って製品化しました。その後、露光装置の進化に伴い、液浸露光・ダブルパターニング露光に対応した最新型ＡｒＦエキシマレーザを次々と市場に供給し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィー技術の発展に貢献しています。２０００年の創立時に一桁だった世界市場でのマーケットシェアを、２０１５年には６０％まで伸ばすという驚異的な躍進を遂げています。
◆技術力・開発力 先端光源の量産化に向けて、製品開発に取り組んでいます
次世代露光技術開発に取り組むギガフォトンは、ＡｒＦ露光の次世代候補（ＮＧＬ）となるＥＵＶ露光の開発にも積極的に取り組んでいます。技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ Ｓｙｓｔｅｍ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ； ＥＵＶＡ）の発足メンバーの１社として当初から参画し、露光用光源の開発において、重要な役割を担い、現在では、自社で次世代リソグラフィ光源であるＥＵＶ光源の量産化に向けて、製品開発に取り組んでいます。 |
| 創業／設立 |
2000年08月 |
| 本社所在地1 |
栃木県小山市横倉新田４００ |
| 電話番号 |
0285-32-7182 |
| 事業所 |
■本社・工場／栃木県小山市
■国内拠点／東北事務所、四日市事務所、広島事務所、九州事務所
■海外拠点／アメリカ、オランダ、韓国、中国、台湾、シンガポール、イスラエル |
| 代表者 |
浦中 克己 |
| 資本金 |
50億円 |
| 売上高 |
458億7,700万円（2021年03月現在） |
| 従業員数 |
1,260名（2023年03月現在）（※中途採用率：２０２１年度５１．３％， ２０２０年度 ５０％， ２０１９年度 ７５％） |
| 上場区分 |
非上場 |
| 主要取引先 |
主要半導体製造用露光機メーカ（ＡＳＭＬ、ニコン、キャノン、ＳＭＥＥ）
主要半導体メーカ（インテル、サムソン、ＴＳＭＣ、東芝 等） |