ニッタ・ハース株式会社

ニッタ・ハース株式会社(ニッタハース)の新卒採用・企業情報

正社員

ニッタ・ハース株式会社

【化学】

「超精密研磨のリーディングカンパニー」
1983年の創立以来、超精密研磨とよばれるナノレベルの研磨を実現する技術を追求してきました。積み重ねた技術と知識により市場シェアはトップクラス。これからも超精密研磨のリーディングカンパニーとしての責任を果たしていきます。

「Small But Excellent」
社員300名、決して大企業ではありませんが、私たちの技術が医療テクノロジー、情報テクノロジーなど様々な場面で必要不可欠な技術要素となっています。「小さいけれど、世の中になくてはならない会社」それがニッタ・ハースです。

「成長を促進する働き方」
ニッタ・ハースは少数精鋭経営です。少人数ゆえに一人ひとりが果たす役割は大きく、入社1年目の新入社員でもやりがいのある仕事を担っていただきます。

  • 過去10年赤字決算なし

  • シェアNo.1サービスあり

  • 特許やオンリーワン技術あり

  • 3年連続で業績アップ

  • 外資系企業

私たちの魅力

事業内容
ADVANCED SURFACE CREATION 最先端の研磨技術を生み出すために

ニッタ・ハースは研磨関連資材のリーディング企業として、高機能・高品質の製品を提供することにより、お客様の多様なニーズに応えて参りました。
その範囲は、半導体デバイス、シリコン・化合物ウェーハや高品質ガラス等の製造に欠かせないCMP工程向けのパッド、スラリー、及びその関連材料分野に及びます。
ニッタ・ハースはこれからも、お客様の必要とされる「最適表面の創造」を実現する研磨ソリューションを提供することにより、お客様の技術革新に貢献します。

私たちの仕事

スマートフォン等の情報機器の小型化を実現させたのは、半導体デバイスの集積化技術。私達がつくる研磨パッドやスラリー(研磨剤)等のCMP(化学的機械的研磨)資材がその技術を支えています。CMP技術を1980年代に世界で初めて開発した米国企業のグループ会社として生まれた当社は、1993年に日本へCMPに不可欠な研磨消耗資材を持ち込み、国内のウェーハ・半導体メーカーへ広めてきました。今日の集積化技術発展の歴史は、当社の歴史でもあるのです。また近年では半導体基盤のシリコン研磨やスマートフォンなどのカバーガラスに使用されるサファイア研磨などの分野にも活躍の場を広げています。

はたらく環境

社風
電子デバイスを更に進化させるために

私たちのミッションはお客様にとっての「最適表面を創出するグローバルNo.1パートナー」であることです。そのために営業担当は常日頃からお客様と親密な関係を構築し、お客様でさえ気付いていない細かなご要望まで実現するべく活動を行っています。そして営業担当からの情報をもとにエンジニアは、積上げてきた経験・知識をもって、膨大な数の挑戦を繰り返して新しい価値(製品)を生み出します。営業とエンジニアの高いレベルでの協働が、お客様からの信頼を維持し、リーディングカンパニーであり続けるための秘訣です。

企業概要

創業/設立 198311
本社所在地 大阪府大阪市浪速区桜川4-4-26
代表者 千葉光隆
資本金 5000万円
売上高 184億円(2017年度実績)
従業員数 313 (2018年11月現在) 
事業所 本社:大阪本社
工場:京都工場(京都府京田辺市)、三重工場(三重県いなべ市)
支店:東京支店

採用連絡先

ニッタ・ハース株式会社 
総務人事部 採用担当
西岡 政典
TEL:0774-68-0864
Mail:mnishioka@nittahaas.co.jp